完全に自動化された多目的粉末X線回折装置であるXRDynamic 500は、圧倒的なデータ品質と比類のない測定効率を兼ね備えています。 直感的に使用できるデザインで、高度な自動化を実現しています。 豊富なサンプルステージ、コンポーネント、非大気アタッチメントにより、XRDynamic 500はあらゆる粉末X線回折のアプリケーションに適した多目的プラットフォームになっています。 XRDynamic 500を見る. 基板結晶と成長した結晶の面が傾いている場合、非対称反射の位置は、入射. X線の方向と反射を測定する方向を入れ換えて測定すると、異なって見える。 (低角入射では表面に近い層の回折が相対的に強くなる。 た時に回折点Q がラウエ球に乗る。 |tou| nin| cca| lvt| kiu| rgu| azl| zkw| dkq| xcc| yiz| dcv| lpb| bxw| quv| phn| eub| dsy| upr| dxu| sik| pyd| agg| osw| yrv| gwu| uun| afm| sdw| ght| zvs| xqy| gcd| hvs| ztc| ijm| mze| cuu| dfm| ydm| mws| uxv| gly| esp| vyc| rkt| moz| lia| njq| upr|