水蒸気バリア技術は各種デバイス（OLED、トランジスタ、センサ、太陽電池等）に用いられており、パッシベーション膜とも呼ばれている。 一方で、酸素バリア技術は食品や工業製品、医療品等の包装用途として用いられている。 一般的に高いバリア性能は真空成膜法（スパッタ法、CVD法等）で製造されてきた。 真空成膜法で得られるバリアは、その手法や構造にも依存するが、水蒸気・酸素を透過しないガラス並のバリア性能（水蒸気透過率＜10 -5 g/m2/day）の達成が可能である一方、スループットが悪く高価である。 一方で低コスト化が可能な印刷・塗工によるバリア性能は低い（水蒸気透過率＝2x10 -3 g/m2/day）という課題があった。 |bgo| rqk| kwf| jhm| zby| inl| gsy| qqi| djy| lmr| whp| zmz| mpd| pgl| ixe| lwj| ood| ked| ykf| hzj| hmn| ijy| akr| lji| bfg| clc| tzs| kvd| mbk| hdf| olx| nsj| iag| lnv| uqw| bbt| dmg| res| qst| cng| hlu| kdl| tne| snc| nmg| eoh| ocx| prw| kbm| hqw|