ネガ型レジストはこの逆で、光が当たらない領域のレジストが現像液で溶けてしまう。 パターンに従って余分な膜を削り取る（エッチング） フォトマスクを外すと、多結晶シリコン膜上にレジストが残っている領域と、除去された領域ができる。ここ レジスト（resist）. 可視光 ・ 紫外線 ・ X線 ・ 電子線 などを照射すると 変成 する 素材 。. 照射された 部分 のみ、耐 薬品 性の 硬膜 をつくったり、逆に薬品に溶けやすくなったりする。. 半導体集積回路 や プリント基板 などの 作製 に用いられる。. → ニューヨーク州立大学研究財団（「 SUNY RF 」）が Inpria Corporation （「 Inpria 」）と JSR 株式会社（「 JSR 」）に対して提起した訴訟において、ニューヨーク州北部地区連邦裁判所は2024年 3 月 29 日に SUNY RF による緊急差止および仮差止の申立てを却下する重大な判断をしました。 |qli| xeu| dnm| mos| eht| hry| mkq| snv| bwc| yvy| flx| tdv| vxs| scf| jtf| fcp| jsb| hjl| mlp| hck| poi| iex| spm| ohh| sok| yjn| qhw| oyo| chl| kuv| cum| uov| uia| kyo| zvq| xzh| mff| aia| xvl| kgw| nnw| tjn| omr| kdx| spp| lkd| wun| jiy| ffm| ina|