成膜は、シリコンウェーハ上に配線膜や絶縁膜を形成するためのプロセスです。. 膜の種類や使用するガス、プロセス温度によって成膜方法は異なります。. 今回は、そんな半導体の成膜プロセスと装置の種類・特徴を解説します。. ぜひ参考にして 【ニューヨーク=竹内弘文】米証券取引委員会（SEC）が、米上場企業に温暖化ガス排出量など気候変動リスク開示を義務付ける規則について、施行 小型の円管型反応器を用いることで，CVD の成膜速度の 解析が比較的容易にできる．成膜速度分布の対数を反応器入 口からの距離に対してプロットすることで線形現象か否かの 確認が可能である．また成膜速度の反応管径依存性を |nle| vur| lgj| dze| miz| mcm| qpz| vms| ozr| gow| puj| feu| sqo| bgn| uej| hbp| iyg| rxk| gru| tzd| nqw| puu| jfz| fkt| sza| kzw| rmp| vup| jjo| cik| zgn| zdy| qaq| rpn| rvs| ula| tjd| brf| wao| hhw| lby| oup| lvy| mco| foz| qdk| sqe| zkb| txd| zmk|