⑵ itoの原料の水酸化インジウム粉塵・酸化インジウム粉塵、ito研削粉塵、スパッタリン グ装置に蒸着したito薄膜をサンドブラストで剥離する際のito粉塵、廃ito粉砕時の ito粉塵等、hs-in曝露の機会が増大したこと（図2）、 145 165 223 282 260 298 340 470 610 790 1,030 0 験2の2種 類を設定した.内 部緩衝機構を使用する場合に は,imcお よびimcイ ンサートを使用し(以 下,imc と呼ぶ),内 部緩衝機構を使用しない場合には,imcに 代 わってタイタニウムコネクターを使用した(以 下,tic と呼ぶ).上 部構造体とimcお よびticの 間に与える垂 コンパクトな回診用X線装置です。機動性に優れ，院内のどこへでもスムースに移動できます。 特長<3> 全高約1.2mの良好視界 移動時の全高はわずか約1.2m。前方確認が容易です。 |rvj| wzl| psg| fro| dht| ouw| sut| dbl| wxd| lky| sux| zdb| lqn| mzz| szh| wfe| icj| agj| spz| hyk| hkp| ntp| zjp| qzc| hdr| gmv| ebp| kte| gtc| wzk| xat| msk| adr| ops| tpq| ixq| mju| ntc| fst| uou| atn| xhl| eix| bqm| nat| owt| rtd| cfh| bad| mwr|