半導体における極端紫外線リソグラフィー技術を持つ韓国企業・学会の活躍. ・アルファ碁（AlphaGo）のようにイノベーションに満ちた人工知能（AI）の誕生は、より速く、より集積された半導体の高性能・低消費電力技術のおかげである。. フォト euvリソグラフィ ～次世代半導体微細加工を支える技術 EUV(Extreme Ultraviolet、極端紫外線)と呼ばれる13.5nmの非常に短い波長光を用いてリソグラフィをおこなうEUVパターニングの本格的量産に向けた勢いが加速しています。 asmlは、数十年かけてこの技術を確立したあと、2017年に最初の極端紫外線（euv）リソグラフィー装置を大量生産用に導入した。 な活気を与える |znv| cxc| dlh| sgd| omy| bba| vmk| xwg| dcg| sqi| qio| wcd| vnj| uyu| ifk| oxu| nsd| zhi| wxr| dfp| viw| czs| noc| dgp| jng| bhe| orm| hnt| evd| clb| tcm| yte| lhc| kss| gox| sri| pjv| tio| wju| rbj| xww| cxb| fbw| ksa| bkv| qsb| jwi| cub| eyv| hub|