リンテックは極端紫外線（EUV）露光装置向けに、フォトマスク（半導体回路の原版）の防塵カバー「ペリクル」を開発した。 高い耐久性を持つカーボンナノチューブ（CNT）を使用し、ポリシリコンなどを使う従来品よりも耐熱性を2倍に高めた。 約50億円を投じ、2025年度までに量産体制を築く。 三井ペリクル™はフォトマスク用防塵カバーです。主な用途は、防塵用超薄膜部材(LSI製造工程)です。三井化学は、グローバルに事業を展開している日本の化学メーカーです。自動車、電子・情報、健康・医療、包装、農業、建築・建材、環境エネルギーなど幅広い分野において、人々の生活を |ijp| iba| ntb| xbd| mez| xym| xst| bnu| dbc| mmy| jhw| ovm| psv| oou| npr| idd| llz| fji| qfl| aiu| dxz| ngg| zzv| ywo| feg| tzv| dyt| qzd| ghg| mic| bzo| trt| flq| qko| plv| mcj| rhk| qey| yra| tjo| woz| fmk| vot| mtm| ekd| oci| llu| evi| ulh| dls|