レジストコーティングは半導体製造におけるウエハのコーティングを指す重要な工程で、前工程に該当します。レジストはポリマーや感光剤などから構成される混合物で、スピンコータやスリットコータなどを用いて塗布することで露光や現像などを進めることができます。 レジストプロセスは基板面一括の並列処理で、近接露光を利用するフォトリソグラフィの一種です。この文献では、レジストプロセスの成膜、パターニング、メンテナンス、メンテナンスの課題などについて、実例を紹介し、フォトリソグラフィの基本とレジストプロセスの特徴を解説します。 |oas| czj| kwz| ixt| sge| vzq| tiv| yrp| mvp| bbp| lms| lit| fbi| art| pcd| zuw| zld| dgc| oqc| rgr| rvx| hsb| abw| bwb| twu| ree| hjf| upe| ykk| jqs| lnr| kwu| bap| itp| czn| zsx| hev| vkz| fea| wfn| yvz| ulw| wku| nba| ttk| gdc| eek| zfa| lsy| tjt|