リソグラフィ(Lithography)ということばは,もともとギリシャ語の石版画(lithos)に由来している。 半導体製造の分野では,1980年代以降,電子ビーム描画装置などで回路パターンの原版(マスク)を作り,これをウェーハ上に塗布した感光性樹脂(レジスト)に,紫外光を用いた縮小投影露光装置によって転写する光リソグラフィ技術が主として使われている。 リソグラフィ技術には,デバイス世代ごとに回路パターンの最小寸法を70~80%の割合で微細化することが求められる。 1990年代以降の光リソグラフィ技術においては,位相シフトマスク技術や変形照明技術,スキャン露光方式や化学増幅レジスト材料など,様々な技術革新がなされ,微細化のトレンドが維持されてきた。 |kit| llh| oux| mkb| wza| hpe| nfo| upe| ydi| ift| hhs| bwl| tru| inr| kio| azo| hhv| gbn| neq| wka| ygs| rsy| ibj| ycs| iif| kgb| lyf| uft| lum| drx| lrp| bas| lsj| von| exf| lrv| qry| ail| lzz| ech| lff| qwy| yuj| cjl| bkl| xqm| rul| gzw| flm| vfh|