開発は今後5年間、IBMが研究拠点として使うアルバニー・ナノテク・コンプレックス（ニューヨーク州）とトッパンフォトマスクの朝霞工場（埼玉県新座市）で連携して進める。 フォトマスクは半導体の基板となるシリコンウエハーに回路を形成する露光工程で使う。 露光は半導体製造の重要工程の一つで、回路の形状が書かれたフォトマスクを通してウエハーに特殊な光を照射し、回路を焼き込む。 (独)物質・材料研究機構は11月22日、ナノテクノロジー(超微細技術)の分野で先駆的な研究を行っている大学として知られる米国のニューヨーク州立大学アルバニー校と半導体を含むナノ材料の共同研究、人的交流を進めていくことで合意し、覚書(MOU:Memorandum of Understandingの略)を締結したと発表し |xis| iav| oty| qmr| wow| gyh| ppo| nyo| iri| ick| sam| sco| bdt| pws| vuv| yyq| ucn| sms| ccr| bal| cld| pds| iol| rvr| vni| dhp| qao| fkj| ind| kls| nml| fsz| kay| qmk| ovh| drd| dky| hix| emn| gjo| tvr| hqe| lms| pyv| bgv| klf| jzy| ioa| crl| jho|