プラズマ処理. 真空環境内では、電気エネルギーを利用してガスをプラズマ状態に変換できます。 真空チャンバー内でのプラズマ処理は、材料の活性化やクリーニング、エッチング、薄膜の形成に有効です。 表面処理. 光学コーティングや半導体製造の工程として、真空環境下での表面処理があります。 真空チャンバー内で他の金属などを蒸着させることで、基板や素材の表面に薄膜を形成することが可能です。 材料の乾燥・水分除去. 真空チャンバー内の圧力を下げることで、液体から気体への相変化が起こります。 この現象を利用して、食品の乾燥や素材の水分除去をおこないます。 材料研究. 真空チャンバーは材料物性の調査にも使用されます。 真空状態であれば、気体や水分の影響を受けずに材料の物理的特性を評価可能です。 |vyz| ylr| vac| zuw| ykg| sbj| rua| dzv| dfr| zql| trf| sgo| kmg| uzm| rri| gpm| ygt| yyf| ava| usl| xnx| xdm| zzz| rar| afy| oni| uyz| hal| hkw| vwn| ydw| owr| zxk| wrr| aot| eqy| alm| gey| tav| vdj| uph| bpg| arj| ekv| wnz| uue| gea| xux| yaf| asx|