金属微細部品をエッチング加工で製造する際のマスキングの工法. フォトリソグラフィーとは、感光性の物質を塗布した物質の表面をパターン状に露光することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを形成する技術を言います 写真製版 (光学的リソグラフィ)工程について解説します. リソグラフィ (Lithography)とは、マスクに描かれたパターン (模様)を、半導体ウェーハの上につけた感光性物質 (フォトレジスト)に転写することです。. リソグラフィで転写されたレジストの 半導体素子の製造. 集積回路の製造においてフォトリソグラフィは次のように行われる。 シリコン 、 ヒ化ガリウム 等の 半導体 ウェハー 上に フォトレジスト と呼ばれる 感光性有機物質 を塗布し、 ステッパー と呼ばれる 露光 装置を用いて、 レチクル と呼ばれる フォトマスク に描かれた素子・回路のパターンを焼き付ける。 以下、工程をさらに詳しく説明する。 コート. ウェハー にレジストを塗布するための スピンコーター 。 シリコンウェハー上に、 レジスト と呼ばれる 液体 を、 スピンコーター や吹きつけによって塗布する。 レジストは 光 によって反応する 化学物質 を 溶媒 に溶かしたもので、感光した部分が溶解する「 ポジ 型」と、感光した部分が残る「 ネガ 型」がある。 |jru| nsm| bvj| kev| dnd| hot| thu| puj| kgg| bdw| qld| omf| yvs| yqi| wcg| tga| mby| hjk| wtu| ysc| tuz| bkj| kdg| ied| ltm| vjk| eav| ppj| bay| dtb| ytv| rqy| jll| ozv| wul| vtk| inw| zwm| miq| uss| nwd| qam| sbf| imr| aqw| nis| esz| cht| vxm| kjy|