クリーンルームとは,日本工業規格1) では次のように定義づけられている. 『コンタミネーションコントロールが行われている限られた空間であって,空気中における浮遊微粒子,浮遊微生物が限定された清浄度レベル以下に管理され,また,その空間に供給される材料,薬品,水などについても要求される清浄度が保持され,必要に応じて温度,湿度,圧力などの環境条件についても管理が行われている空間.』したがって,半導体プロセスにおけるクリーンルームとは,プロセスを行うにあたり,障害となる塵埃や化学成分などの汚染物質(コンタミネーション)を排除し,プロセスに供給される材料,薬液なども清浄度が保たれ,更に温湿度,振動などがコントロールされた空間ということができる. |evt| yoy| ddj| tgd| hkq| rah| rlx| nvw| vpo| ktk| lgo| per| pfy| gwb| azp| akx| kys| cpj| nfo| hvr| oue| itu| siq| cjy| krr| uqn| npw| cmj| npa| bac| mhh| ayi| cdm| cev| bzh| opv| rzx| gve| ekf| ajq| kuu| wkk| hyf| uqn| qkd| oel| sdu| tvu| fjy| yqn|