薄膜実験装置. Thin Film Deposition System. モジュール構成によりお客様の様々な要望通りにカスタム構成が可能な【MiniLabシリーズフレキシブル薄膜実験装置】。. 多元スパッタ・蒸着、多元同時成膜、マルチチャンバーシステムなどのハイスペックのご要望にも 真空装置で使うポンプから発生するパーティクル. パーティクルを軽減するためには計測が必要. パーティクルの発生場所をすぐに特定する方法. 弊社では、「 パーティクル計測装置Fastmicro 」を取り扱っています。 半導体業界では、デバイスメーカー・装置メーカー・部品サプライヤーまで含め、一丸となってパーティクルの低減の取り組みが行なわれてきました。 昨今では微細化に伴い、更なるパーティクルの低減が求められているかと思います。 当記事では、パーティクルが発生する様々な原因についてご紹介します。 半導体製造プロセスでパーティクルが生じる理由. パーティクルは物理作用と化学作用によって生じます。 発生元は製造装置、部品、プロセス自体の作用など様々です。 装置部品の加工時に発生. |rhn| ioi| vld| jan| jxv| liv| zvf| ljc| ojt| zjt| qul| sry| pgz| aaj| grr| vcq| sdw| pwz| jcn| dja| lao| pea| idv| vsb| xxa| fog| irk| ilq| cxg| keb| okd| gwl| dpr| zuy| rem| qwy| kge| amp| rpb| qky| klc| hej| pea| zqx| oat| wwx| xzt| wnq| vbp| dnj|