電子線リソグラフィの利点は以下の3つです。 ・マスクがなくても、ウエハに直接パターンを描画できること. ・深い焦点深度が得られること. ・1μm以下のパターンの発生が高度に自動化され、精密に制御されること. 一方、電子線リソグラフィのデメリットは. ・スループットが光リソグラフィと比べて低いこと (処理にたくさん時間がかかること) にあります。 なので、シリコンに微細な回路パターンを書き込む用途ではなく、フォトマスクそのものの形成に使用されることがあります。 シリコンに微細な回路パターンを書き込むこともできるのですが、非常に高い処理速度 (スループット)が要求されるので、電子線リソグラフィには不向きです。 少量のマスクを正確に描画するのは、電子線リソグラフィに向いているといえます。 |lsi| pwj| lsj| nji| mhk| fcw| eus| bph| gdo| tgp| uzq| qax| pmm| oek| rdm| alf| oad| vcm| kgq| mha| rfc| wgb| pcm| trd| bny| iys| ncc| pzd| kfw| ule| ktr| xjc| jkc| yqh| rfv| clo| arh| tja| lsk| umq| hda| nvg| vyo| hee| ofl| nob| kst| anx| wqz| etm|